一：化工廢水處理新技術(shù)技術(shù)百科問(wèn)題1：化工廢水處理工藝方法求助答：而且發(fā)展很快。此外，石油化工活性炭及其組合工藝在含酚工業(yè)廢水（如塑料廠、煉油廠、焦化廠等廢水脫酚）、含硫工業(yè)廢水（如天然氣凈化廠、煉油廠和廠化廠含硫廢水）、有機(jī)化工廢水等處理
一：
光刻膠技術(shù)百科
問(wèn)題1：什么是光刻膠以及光刻膠的種類(lèi)
光刻膠答：光刻膠是一種有機(jī)化合物，它受紫外光曝光后，在顯影液中的溶解度會(huì)發(fā)生變化。一般光刻膠以液態(tài)涂覆在硅片表面上，曝光后烘烤成固態(tài)。1、光刻膠的作用：a、將掩膜板上的圖形轉(zhuǎn)移到硅片表面的氧化層中；b、在后續(xù)。
問(wèn)題2：光刻膠是否與酸發(fā)生反應(yīng)?常見(jiàn)的光刻膠有哪些種類(lèi)?主要成分是什么
答：光刻膠是有機(jī)物，與強(qiáng)氧化性的酸會(huì)反應(yīng)，如：濃HNO3，濃H2SO4。光刻膠種類(lèi)：正膠，負(fù)膠成分有三種：溶劑，感光物，催化劑。
問(wèn)題3：正性光刻膠與負(fù)性光刻膠對(duì)孔金屬化的優(yōu)缺點(diǎn)-問(wèn)一問(wèn)
答：你好，如果進(jìn)行對(duì)比，正性光刻膠的精度會(huì)比負(fù)性光刻膠的精度更加的精確。負(fù)膠顯影后圖形有漲縮，負(fù)性膠限制在2~3μm，而正性膠的分辨力優(yōu)于05μm導(dǎo)致影響精度，正性膠則無(wú)這方面的影響。但是對(duì)于同一厚度的正負(fù)。
問(wèn)題4：光刻膠危險(xiǎn)嗎
光刻膠答：網(wǎng)上有人說(shuō)：光刻膠的危害主要是溶劑，負(fù)膠的溶劑是二甲苯毒性很大，而且非水溶性，難不過(guò)顯影去膠用的是堿液，方便無(wú)毒。總之，身體使自己，要好好愛(ài)惜！個(gè)人認(rèn)為光刻膠一般不會(huì)有太多的傷害，因?yàn)槟阌玫臅r(shí)候不。
問(wèn)題5：光刻機(jī)殘留的光刻膠該如何處理才能去除干凈?
光刻膠答：等離子清洗機(jī)表面處理機(jī)應(yīng)用包括處理、灰化、改性、蝕刻等過(guò)程。選擇等離子清洗設(shè)備，不僅能徹底除去光刻膠和其他有機(jī)物，而且能激活晶圓表面，提高晶圓表面的潤(rùn)濕性。聚合物、包括形狀不一的槽孔和狹長(zhǎng)的孔洞內(nèi)的微粒，使用等離子。
問(wèn)題6：光刻膠在曝光后可以見(jiàn)白光么?
答：可以。光刻膠也稱(chēng)為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，受到光照后特性會(huì)發(fā)生改變，是微電子技術(shù)中微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料之一，主要應(yīng)用于電子工業(yè)和印刷工業(yè)領(lǐng)域。
問(wèn)題7：QD光刻膠和QD墨水的區(qū)別
答：QDCC墨水性能穩(wěn)定、打印流暢、膜縮率低。量子點(diǎn)光刻膠（QDPR）為UV負(fù)性光刻膠，主要組分為量子點(diǎn)、擴(kuò)散粒子、樹(shù)脂、單體、溶劑、光引發(fā)劑和助劑。星爍QDCC墨水由經(jīng)特殊表面處理的量子點(diǎn)、UV固化高分子樹(shù)脂、光散射粒子等多。
問(wèn)題8：JNC/JSR/KOlon光刻膠的特點(diǎn)與區(qū)別OC膠中,JNC/JSR/KOlon光刻膠的
答：光刻膠的主要成分有光刻膠樹(shù)脂、感光劑、溶劑和添加劑。光刻膠樹(shù)脂是一種惰性的聚合物基質(zhì)，是用來(lái)將其它材料聚合在一起的粘合劑；光刻膠的粘附性、膠膜厚度等特性都是由樹(shù)脂決定的。感光劑是光刻膠的核心部分，它對(duì)光。
問(wèn)題9：什么是光刻膠以及光刻膠的種類(lèi)
答：光刻膠是一種有機(jī)化合物，它受紫外光曝光后，在顯影液中的溶解度會(huì)發(fā)生變化。一般光刻膠以液態(tài)涂覆在硅片表面上，曝光后烘烤成固態(tài)。1、光刻膠的作用：a、將掩膜板上的圖形轉(zhuǎn)移到硅片表面的氧化層中；b、在后續(xù)。
問(wèn)題10：負(fù)性光刻膠的原理
光刻膠答：光刻膠在接受一定波長(zhǎng)的光或者射線時(shí),會(huì)相應(yīng)的發(fā)生一種光化學(xué)反應(yīng)或者激勵(lì)作用。光化學(xué)反應(yīng)中的光吸收是在化學(xué)鍵合中起作用的處于原子最外層的電子由基態(tài)轉(zhuǎn)入激勵(lì)態(tài)時(shí)引起的。對(duì)于有機(jī)物，基態(tài)與激勵(lì)態(tài)的能量差為3~6eV。
二：
光刻膠技術(shù)資料
問(wèn)題1：光刻膠的作用
答：光刻膠是一大類(lèi)具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料，是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照?qǐng)D案的媒介。光刻膠的英文名為resist，又翻譯為抗蝕劑、光阻等。光刻膠的作用就是作為抗刻蝕層保護(hù)襯底表面。光刻膠只是。
問(wèn)題2：光刻膠的介紹
答：又稱(chēng)光致抗蝕劑，由感光樹(shù)脂、增感劑（見(jiàn)光譜增感染料）和溶劑三種主要成分組成的對(duì)光敏感的混合液體。感光樹(shù)脂經(jīng)光照后，在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化反應(yīng)，使得這種材料的物理性能，特別是溶解性、親合性等發(fā)生明顯變化。
問(wèn)題3：國(guó)內(nèi)自己能生產(chǎn)的光刻膠企業(yè)有哪些?
答：一、晶瑞電材：公司是一家專(zhuān)業(yè)從事微電子化學(xué)品的產(chǎn)品研發(fā)、生產(chǎn)和銷(xiāo)售的高新技術(shù)企業(yè)，主導(dǎo)產(chǎn)品包括超凈高純?cè)噭⒐饪棠z、功能性材料、鋰電池材料和基礎(chǔ)化工材料等。公司主要的優(yōu)質(zhì)客戶(hù)資源包括有研半導(dǎo)體、晶澳科技、三安。
問(wèn)題4：pcb光刻膠和半導(dǎo)體光刻膠的區(qū)別
光刻膠答：光刻膠是一種有機(jī)化合物，它受紫外光曝光后，在顯影液中的溶解度會(huì)發(fā)生變化。一般光刻膠以液態(tài)涂覆在硅片表面上，曝光后烘烤成固態(tài)。1、光刻膠的作用：a、將掩膜板上的圖形轉(zhuǎn)移到硅片表面的氧化層中；b、在后續(xù)。
問(wèn)題5：光刻膠的成分對(duì)身體有哪些傷害
答：網(wǎng)上有人說(shuō)：光刻膠的危害主要是溶劑，負(fù)膠的溶劑是二甲苯毒性很大，而且非水溶性，難不過(guò)顯影去膠用的是堿液，方便無(wú)毒。總之，身體使自己，要好好愛(ài)惜！個(gè)人認(rèn)為光刻膠一般不會(huì)有太多的傷害，因?yàn)槟阌玫臅r(shí)候不是。
問(wèn)題6：光刻膠中的eth和eop是什么意思
答：ETH是指曝光區(qū)域在顯影后膜厚為0的最低曝光量；EOP是指能圖形按1:1復(fù)制到光刻膠上的曝光量。希望對(duì)你有所幫助。
問(wèn)題7：光刻膠勻膠后為什么要去除掉邊緣的光刻膠
光刻膠答：可能是勻膠后邊緣的光刻膠有堆膠現(xiàn)象，如果采用的是接觸式曝光，那么掩模板和晶片之間就會(huì)有間隙，造成曝光出現(xiàn)虛影，因此要去除掉邊緣的光刻膠。
問(wèn)題8：光刻膠~~光刻膠的概念是什么?
答：光刻膠photoresist又稱(chēng)光致抗蝕劑，由感光樹(shù)脂、增感劑（見(jiàn)光譜增感染料）和溶劑三種主要成分組成的對(duì)光敏感的混合液體。感光樹(shù)脂經(jīng)光照后，在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化反應(yīng)，使得這種材料的物理性能，特別是溶解性。
問(wèn)題9：光刻膠的應(yīng)用
光刻膠答：模擬半導(dǎo)體（AnalogSemiconductors）發(fā)光二極管（Light-EmittingDiodesLEDs）微機(jī)電系統(tǒng)（MicroelectromechanicalSystemsMEMS）太陽(yáng)能光伏（SolarPhotovoltaicsPV）微流道和生物芯片（Microfluidics&Biochips）光電子器件/光子器件。
問(wèn)題10：光刻膠的氣味對(duì)人體有哪些危害?
答：網(wǎng)上有人說(shuō)：光刻膠的危害主要是溶劑，負(fù)膠的溶劑是二甲苯毒性很大，而且非水溶性，難不過(guò)顯影去膠用的是堿液，方便無(wú)毒。總之，身體使自己，要好好愛(ài)惜！個(gè)人認(rèn)為光刻膠一般不會(huì)有太多的傷害，因?yàn)槟阌玫臅r(shí)候不。
三 ：
光刻膠名企推薦
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